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随着研究我国对于半导体、光电信息技术的飞速经济发展，研发提纯净化能力水平高、耐高压、使用可以方便、投资少、易推广的对N2、H2、He、Ar、O2、NO气体配制用高压提纯技术及装置尤为具有重要。今天我们就为大家比较简单分析介绍以下几种高纯气体的提纯技术！
氢气、氦气提纯技术
填充两类低温度，精心设计的热交换，吸附在低温下的多孔吸附剂净化装置中，可以有效H2，他除去杂质，高达纯度99.9999％，由于非常恶劣的条件下，操作员必须经过严格的培训和指导，否则容易发生意外。 2006年单位在氢气净化，因为具有许多隐患，例如作为脱氧剂，超过原材料的氧浓度的失败巧合，纯化处理装置是没有足够的时间和其他因素的影响，气体在低温下分解净化，幸好没有造成安全。由于这种方法能够有效地在N2，CO，CH4等除去H2，也可以扩展到H2实施例的大规模纯化，这样的方法是一个重要的低温法生产的高纯度H2。
氮气提纯技术
采用一种高效的脱氧反应催化剂，利用以及脱氧处理催化剂的氧化可以还原一个特点，脱除N2中的痕量O2，脱氧在室温下进行，催化剂失活后通氢还原，还原环境温度为350-450℃，其特点是有一定的水蒸汽压力排出。然后用自己大量的N2吹洗或抽空与通氮相结合的方式将H2吹净。经过研究高压条件下脱氧器脱氧，产品瓶的氧含量可小于0.3PPM（V/V），该净化器的特点耐高压，非常具有适于不同气体的配制，脱氧方法效果更加明显，脱氧容量大，催化剂通过使用工作寿命长，实验室管理所用此技术发展已有生活多年，已逐步向大规模氮提纯系统方面得到推广，效果能够较好。
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