氧化铝对空气中的酸性组分( 例如SO2、NO2、Hcl等)部分可以吸附,而这些酸性组分对分子筛是有害的,因为它可以和分子筛吸附的水分生成酸,使分子筛的晶格受到破坏,即分子筛中毒,泰安气体纯化损分子筛对水较氧化铝有较强的亲合力,因而解吸时消耗的能量要多;用氧化铝来去除水,可降低再生能耗。害了分子筛的性能。气体纯化公司采用双层床后,预先用氧化铝将水吸附,这就对分子筛起了良好的保护作用,延长分子筛的使用寿命。
半导体器件变得越来越小,几何结构越来越复杂,使用的材料越来越多,给工艺气体的纯度带来了更大的挑战。更多的工艺步骤意味着消耗更多的工艺气体。现在,即使气体供应中有微量污染物,也会对芯片性能产生不可忽略的影响。因此,工艺气体净化显的日益重要。泰安气体纯化气体和化学品的纯度在先进半导体和存储设备的性能和可靠性方面发挥着重要作用。气体纯化公司为了保持竞争力,许多半导体制造商提高了产量,从而增加了气体的总消耗量。因此,对污染物采取必要的净化措施势在必行。
气体纯化公司首先使空气通过过滤器除去尘埃等固体杂质,进入压缩机压缩,再经过分子筛净化器除去水蒸气和二氧化碳等杂质气体。在这里分子筛可使氮气、氧气等较小分子通过,起到筛选分子的作用。然后进行冷却、降压,当温度降至—170℃左右时,推荐气体纯化空气开始部分液化进入精馏塔,根据空气中各气体的不同沸点进行分馏。液态氧的沸点比液态氮的沸点高,两者相比液氮更易气化。经多步分馏可以得到99%以上的纯氧,同时得到氮气和提取稀有气体的原料。
泰安气体纯化催化剂:可以催化H2,CO,烃类等还原性气体与O2结合生成水和CO2,一般用在杂质含量较高时,预处理掉大量的杂质。脱氧吸附剂:可以以化学反应的方式去除掉O2,以物理吸附方式去除掉水和CO2。一般经此工序后产气的纯度已经足够使用了。推荐气体纯化吸气剂:吸气剂可以去除掉除了氩气,氦气等惰性气体以外的所有气体。(有些特制吸气剂也不会吸收H2)主要针对N2,CH4等。
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